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涉盜取機密擬在華設晶片廠 三星前高層被起訴

三星電子是韓國「護國神山」,美國總統拜登去年訪問時都特地參觀。路透社資料圖片

韓國半導體大廠三星電子一名高層,涉嫌收受中國賄賂,意圖盜取機密並在中國境內建設半導體廠。韓聯社報道,韓國水原地檢署表示,已經以涉嫌違反「產業技術保護法」、「防治不當競爭法」等罪,對這名65歲常務A某提出拘留起訴。

A涉嫌從2018年8月至2019年以不當手法,獲取並使用三星電子半導體工廠基本工程數據、工藝流程圖、設計圖等信息。涉案技術為用於製造30納米以下動態隨機存取存儲器(DRAM)和閃存晶片(NAND)的製程工藝,屬於國家關鍵技術。

經調查發現,A企圖在距離三星電子西安半導體工廠僅1.5公里處,興建山寨版三星晶片廠。由於台灣一家電子產品製造商曾承諾的8萬億韓元(約合人民幣443億元/62.2億美元)投資落空,工廠建設項目沒有實際進行。但據悉,A曾在成都獲得4600億韓元(3.58億美元)投資建設半導體工廠,其中研發樓已於去年完工,並採用三星電子半導體技術生產出了樣品。

A曾任三星電子常務、SK海力士副社長等職務,是韓國半導體製造領域具有權威地位的人物。他在華設廠後錄用200名三星電子、SK海力士的員工,並指示他們獲取並利用三星電子半導體設計資料。檢方推算,A泄露技術給三星電子至少造成3000億韓元(2.33億美元)損失。

A在中國設立公司所屬5名員工及一名三星電子合作廠商員工,也以涉嫌違反「防治不當競爭法」遭起訴,但當局對他們採取「不予拘留」。

責任編輯: 楚天  來源:RFA 轉載請註明作者、出處並保持完整。

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