在美國對中（共）國高端晶片技術封鎖加劇之際，深圳新凱來產業機械（SiCarrier Industry Machines）聲稱突破瓶頸，其新研發的半導體設備有望助中（共）國實現5奈米製程。然而中媒卻唱衰，專利不等於量產，技術成熟度仍待驗證。
在《SEMICON China2025》展會上，這家國企背景的新凱來備受矚目，展示31套以山命名的設備，宣稱覆蓋7奈米至5奈米光刻技術。董事長戴軍表示，受限於美國禁令，中國無法獲取極紫外光（EUV）設備，但新凱來利用多重圖案化（Multi-patterning）技術，結合深紫外光（DUV）與「自對準四重圖案化」（Self-aligned Quadruple Patterning, SAQP）工藝，可逼近5奈米指標，成本更低。該技術已於2023年底獲中國知識產權局專利認證。
分析師認為，新凱來設備或為中（共）國5奈米製程提供替代路徑。內部人士透露，其設備已獲中芯國際（SMIC）與華為採用。然而，戴軍坦言，多重圖案化增加約20%製程步驟，良率面臨挑戰。中媒則指出，展會僅見技術說明與模型，未見實機，質疑其可信度，稱「專利到量產還有十萬八千里」。
市場傳出，來自深圳新凱來將突破美國的技術封鎖，其本土晶片製造設備可望助中國突破5奈米技術瓶頸。（示意圖，路透）
公開資料顯示，新凱來成立於2022年，母公司新凱來科技由深圳政府基金於2021年全資設立。2024年12月，其被美國商務部列入140家中國晶片企業黑名單。突破若屬實，將是中國半導體「國產替代」的關鍵一步，但前景仍存爭議。
