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黃春梅:日本半導體限令劍指中國 殺傷力更甚美國?

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繼美國針對半導體晶片祭出對華禁令後,日本也將從7月起限制23種關鍵晶片製造設備出口。雖然日本的相關規定並未點名中國,但有輿論認為其殺傷力可能更甚美國。

日本經濟產業省23日宣佈,針對23種半導體製造技術的出口限制措施將在7月23日正式生效。日經中文網指出,23個品類包括極紫外光(EUV)相關產品的製造設備,以及可立體堆疊存儲元件的蝕刻設備等。按運算用邏輯半導體的性能來看,相關設備均屬於製造電路線寬在10~14納米以下的尖端晶片產品。報導指出,此舉是「與美國保持步調一致。」

英國《金融時報》則披露,經過中國半導體業者檢視日本預計施行的相關細則後發現,在限制中國製造半導體能力方面,日本方案對中國的殺傷力更大。有不願透露姓名的中國晶片廠高層坦承:「日本的出口管制比美國去年的制裁更令中國不安。」

據報導,目前全球市場上光刻機製造商只剩3家,分別為荷蘭的ASML(艾司摩爾)、日本佳能(Canon)和尼康(Nikon),這三家設備的市場佔有率依序為82%、10%及8%。

日本禁令恐延伸至45納米晶片

「日本兩家光刻機廠商在沉浸式的DUV市佔率比艾司摩爾高,所以日本重手全部殺下來,恐怕不是先進制程往後退的問題,很可能會消滅整個中國半導體的製造業。」台灣東吳大學企管系兼任講師林修民對本台表示。

「日本的半導體限制令比美國還要狠!」網易知名財經博主「互聯網.亂侃秀」這樣來形容日本限制令的殺傷力,「日本的這23個種類的產品中,已經涉及到45納米工藝了,比艾司摩爾、美國的限售令更為嚴格和範圍廣。」

日本限制光阻劑出口中國製程遭殃

林修民指出,除了光刻機之外,在半導體重要材料氫氟酸(用於半導體的蝕刻工藝)以及光阻劑(光刻機曝光使用)方面,日本市佔率高達8至9成。2019年,日本曾對光阻劑在內的三種原料對韓國進行出口管制,「沒有EUV頂多不能做先進制程;光阻劑不賣,所有的製程通通都做不了。」

日本光阻劑製造商JSR執行長Eric Johnson告訴《金融時報》,將極紫外光(EUV)微影這門技術練到純熟並非易事,即使中國取得精確的化學配方,還得考慮製造時能否達成高純度,精確及重現非常困難,而且中方也沒有可支援的供應鏈。

據拓墣產業研究院(Topology Research Institute)今年1月發佈的報告,中國是全球光阻第一大消費市場,但國產率不足10%,對外依賴程度高。在全球半導體「逆全球化」背景下,中國廠商正加快半導體光阻劑國產化,以因應可能的斷供風險。

北京清華大學集成電路學院教授魏少軍日前在第一財經投書,試圖以日本廠商的利弊得失對日本禁令進行分析。他表示,「中國的半導體產業正在崛起,每年投入的資金近300億美元,其中採購日本設備和材料的資金超過100億美元,這對任何人來說都不是一個容易忽略的數字。」

美日透過經濟安保遏制中國

台灣的國策研究院資深顧問陳文甲接受本台訪問時表示,日前在日本廣島召開的G7峰會在美日主導下,為應對中國「經濟脅迫」的措施已尋求對中國採取共同做法,就是要降低中國風險(de-risk),即要展開「供應鏈去中國化」與「弱化中國經濟霸權」的經濟安保。

在峰會結束後,日本立即正式提出了半導體限制令,凸顯岸田政府為了更加堅定美日同盟,運用當前掌握世界半導體核心生產要素的資金、技術與材料,為避免產業鏈與中國相關的安全風險,使其能更廣泛地與中國脫鈎。

「日本用外交跟經濟安保,在美日同盟基礎上,會持續配合美國以結盟經濟軍事等手段,對中國進行圍堵與遏止。」陳文甲說道。

陳文甲預期,中國未來將加大對國內半導體產業無上限資源的投入,以提高自主研發能力;其次,中國還會積極利誘與德、法、荷等歐洲國家建立技術合作,以規避美日封鎖與分化歐洲與美日關係。但是,「短期內中國要實現突破仍然面臨諸多困難與挑戰。」

中國商務部新聞發言人23日就日本正式出台半導體製造設備出口管制措施回應表示,這是對出口管制措施的濫用,是對自由貿易和國際經貿規則的嚴重背離,中方對此堅決反對。

責任編輯: 李廣松  來源:自由亞洲 轉載請註明作者、出處並保持完整。

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