美國目前在高端晶片曝光設備上高度依賴ASML，因缺乏本土可比技術。如今美國晶片產業可能迎來重大變革，新創公司Substrate決定進軍全球晶片曝光機市場。
路透、金融時報等媒體報道，Substrate計劃打破對ASML的依賴，研發能與ASML極紫外光（EUV）設備相媲美的光刻機，但採用不同方式：利用粒子加速器產生短波長X射線，而非傳統EUV光源。
Substrate希望提供美國國內替代方案，強化晶片製造自主性，並聲稱其技術能降低使用ASML設備的成本。公司已完成技術展示，其X射線光刻技術波長比EUV短，可實現更穩定的多重曝光，結合穩健的光罩與光阻流程，大幅降低晶片曝光成本。
Substrate提到，其新型晶片製造設備能印製12奈米級電路圖案，性能接近ASML最新高數值孔徑EUV機台。相比之下，ASML的設備全球唯一可大規模生產最先進晶片，單台售價超過4億美元，而Substrate的X射線光刻技術不僅解像度高，設備體積更小、成本更低，已在美國國家實驗室完成技術演示，但具體細節尚未公開，也未獲第三方獨立驗證。
挑戰台積電、ASML
Substrate創辦人兼執行長普勞德（James Proud）表示，公司目標不僅是設備製造，還計劃在美國建立晶片代工廠，直接挑戰台積電，生產最先進的人工智能晶片。他強調，要以最低成本、大規模生產高品質晶圓，打破ASML與台積電形成的雙重壟斷。
然而Substrate挑戰依然巨大，ASML的技術是數十年與數百億美元累積而來，建立先進晶片廠需超過150億美元投資，並面臨台積電、英特爾、三星等巨頭的技術競爭。產業分析師認為，如果Substrate成功降低晶片成本，其影響可能如SpaceX降低火箭發射成本般，引發半導體產業的連鎖變化。
