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超狂泄密給華為!中國女打印3000多張機密 在韓機場遭逮捕

—涉偷技術轉職華為,韓國起訴前SK海力士中國員工

韓國晶片製造商SK海力士公司建築外,韓國國旗與該公司的旗幟在飄揚。(2024年1月25日)

韓國警方周二(5月28日)表示,韓國晶片巨頭SK海力士(SK Hynix)一名中國籍女性前員工A某涉嫌向中國華為公司泄露有關降低晶片不良率的核心技術,今年4月被捕後被檢方起訴,目前在法院接受審判,而這是韓國近期一連串晶片技術泄露至中國公司的最新一起事件。

韓聯社報道,京畿南部警察廳產業技術安全偵查隊周二表示,30多歲的A某涉嫌違反《防止產業技術泄露及保護法》,4月底被逮捕與移交給檢察官。A某現已被檢方起訴,正在接受水原地方法院驪州分院的審判。

根據韓國警方,A某於2013年入職SK海力士,之後一直在負責分析晶片不良的部門工作,2020年至2022年在SK海力士中國分公司擔任組長,負責企業交易客戶洽談。不料,A某於2022年6月返回韓國後,於同月就立即跳槽到華為。

A某據稱在離職前不久,用了3,000多張A4紙打印出涉及核心半導體工序問題解決方案的資料。SK海力士禁止員工使用U盤設備,並對打印內容、打印人、文件用途等信息進行詳細記錄和管理。

《韓國時報》(The Korea Times)報道,警方懷疑該SK海力士前員工打印了這些文件,然後將其放在包裏帶出,但她矢口否認了指控。警方在接到SK海力士報案後展開調查,並於上個月她入境時在機場將其逮捕。

針對技術泄露指控,SK海力士表示正在配合調查。

今年4月,三星電子也遭遇類似案件,前部門主管被控竊取其晶片技術,在中國設立一家當地公司,並將晶片設備工程師轉移到他自己的公司。據《韓國時報》報道,三星遭到泄露的信息涉及動態隨機存儲器(DRAM)製造工藝中使用的原子層沉積(ALD)設備。原子層沉積設備對於先進晶片製造至關重要,但中國尚未能夠開發出這種設備。

據韓國警察廳統計,去年2月至10月,相關技術泄密至海外的案件審理數量多達21起,比前一年激增了75%。創下2013年以來的新高。從泄密技術類型來看,顯示器行業案件數量最多、為8起,其次是晶片行業、為3起。

中國政府正在籌集一筆270多億美元的半導體晶片發展基金,以加速中國在尖端半導體晶片技術方面的研發,並抗衡美國聯合盟友在晶片領域對中國實施的越來越嚴厲的出口限制。彭博社今年3月曾引述消息報道,中國國家集成電路產業投資基金(俗稱「大基金」)正在向地方政府和國企募集第三期資本投入,其募資規模可望超過第二期的2000億元人民幣(約合276.63億美元)。

為應對下一階段的美中晶片戰,中國公司目前忙於儲備晶片製造設備的零部件。據中國海關數據,中國半導體設備的進口2023年年比上升了14%,達到幾乎400億美元。《華爾街日報》先前報道說,中國在半導體設備上增加支出原因之一是中國晶片製造商一直在急於儲備設備,以防西方更嚴厲的出口限制,尤其是光刻機(Lithography Machine)。

作為中國信息與通信技術(ICT)標竿企業的華為面對美國嚴厲的技術禁運,去年在中芯國際的協助下推出以一款由先進晶片驅動的Mate60智能手機,令外界驚訝不已。但是這款先進晶片處理器仍然依賴於美國的技術和設備。

台灣駐美代表俞大㵢今年2月7日接受路透社採訪時,對有關中國晶片製造商即將生產下一代智能手機處理器的報道表示懷疑,並稱中國一直試圖以「欺騙」和「竊取」的方式在晶片技術上與台灣匹敵,雖然投入巨資卻仍未成功。

責任編輯: 方尋  來源:美國之音 轉載請註明作者、出處並保持完整。

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