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陸美晶片衝突主角 外媒爆關鍵是它:造價數億美元機具

陸美技術競爭持續延燒,根據紐約時報報導,這場競爭成敗的核心關鍵就在每台售價高達數億美元的ASML曝光機,隨着美國試圖減緩大陸在軍事技術的進展,曝光機已成為大陸發展關鍵技術的瓶頸。

美國無所不用其極遏制大陸晶片業發展。(示意圖/Shutterstock提供)

陸美技術競爭持續延燒,根據紐約時報報導,這場競爭成敗的核心關鍵就在每台售價高達數億美元的ASML曝光機,隨着美國試圖減緩大陸在軍事技術的進展,曝光機已成為大陸發展關鍵技術的瓶頸。

報導指出,曝光機從外表看是光滑的白色箱子,體積與大型貨車相當,如今已變成陸美技術衝突的要害。主要關鍵在於,這些曝光機是大陸發展自主晶片製造業的核心,但大陸尚不具備製造最先進曝光機的技術。

報導提到,美國政府上周祭出新版晶片管制禁令,禁止全球的公司向大陸出口更多類型的晶片製造機器,除非得到美國政府的特別許可,此舉可能給大陸晶片製造雄心帶來重大打擊。美國官員的立場是,美國境外製造的設備就算只包含一個美國製造的零件,也可以對其進行監管,這項決定讓美國官員對荷蘭和日本的晶片製造設備商有了新的控制力。

其中荷商ASML的技術讓全球計算能力大躍進,其光刻機有數萬個零件,每台售價高達數億美元,因為精度不斷提高,使得晶片上的電路變得越來越小,從而使公司能夠將更多的運算能力整合到一小塊晶片中。

這項技術也成為美國及其盟友對大陸施加制裁的關鍵。雖然大陸正在向半導體行業注入大量資金,但其晶片製造設備在技術上,仍比ASML和其他主要設備供應商落後很多年。

川普政府在2019年說服荷蘭政府,不允許ASML將最先進曝光機賣給大陸後,拜登政府又施加了幾個月的外交壓力,迫使荷蘭和日本的政府在今年1月同意,特別限制向大陸銷售一些深紫外曝光機(DUV)以及其他類型的先進晶片製造設備。

文章來源:紐約時報

責任編輯: 李冬琪  來源:中時新聞網 轉載請註明作者、出處並保持完整。

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