美日荷半導體協議除了限售先進制程設備之外，連成熟製程的設備與材料零件都可能會列入管制，這可能會讓中國現有高階的半導體生產線難以為繼。（圖／Shutterstock)
美日荷終於在日前達成對中國限售半導體設備協議，雖然沒有公佈協議細節，但外界都猜測限售的項目應該比先前管制的範圍更大，不少大陸半導體界對此感到憂心忡忡。一些分析人士估計，除了原有的半導體先進制程設備之外，連成熟製程的設備與材料零組件都可能會列入管制。如果真如業界所做最壞的估計，別說相當長時間內無法實現彎道超車，可能連現有較高階的半導體生產線都會難以為繼。
根據荷蘭光刻機巨頭艾斯摩（ASML）日前對媒體發出的聲明中表示，這項由幾個國家達成的先進制程晶片技術與設備的最新協議，其涵蓋的內容包括但不限於先進制程的光刻機。這意味着除了先前已經列入管制的EUV極紫外光刻機之外，連已部分出售到中國的DUV深紫外光刻機都會列入禁售管制。如果實際情況有如業界所擔憂，不只先進制程設備取得無望，未來就連已在中國生產多年的成熟製程（28nm以上）設備，其維修零件與相關材料（如光刻膠）亦可能遭到攔截。
從日本產業相西村康稔日前對媒體的說法可以約略獲得印證。日媒指出，出口管制需修改法令，限制措施可能要數個月才會實施，亦即這段時間以來仍對中銷售的設備與材料將透過修法進行限制，其中除了東京威力科創的光刻機，以及用於晶圓的光刻膠等材料。
美日荷3國達成對中國限售半導體設備協議，外界都猜測限售的項目應該比先前管制的範圍更大，可能會涉及 DUV光刻機設備、零組件及相關材料。（圖／ASML）
如果限售的範圍擴到大包括28nm在內的成熟製程，有業界人士說，那就不只是「卡脖子」，而是「割腰子」了。除了無法升級至先進制程，連成熟製程都可能因難以維護或材料短缺而無法生產。有分析人士以華為智慧手機比喻道，華為被抵制後無法獲得5G的高端晶片，往後恐怕連4G晶片製造都受到影響。
EUV光刻機價格超級昂貴、技術亦非常複雜，迫使許多晶片廠商轉向開發其他半導體替代技術。（圖／路透）
目前大陸半導體業者擁有的DUV光刻機設備數量為全球最多，它們的正常運作與維護離不開美國、荷蘭和日本的技術與零組件、材料支持，如果把連這些都限制，大陸的DUV光刻機用不了多久就會無法正常生產。即便有部分材料或零件可以使用國產替代，但這種精密機器必須樣樣合規才行，即便迫不得已走上國產替代，到每一樣都開發出來，也得花掉相當長的時間。如此一來，缺乏先進晶片支持，從國外又無法進口，各種高科技的研發都會受阻。
一旦荷蘭和日本的限制也正式生效，中芯國際（SMIC）、長江存儲（YMTC）、長鑫存儲（CXMT）等大陸最頂尖半導體企業，目前已擁有的DUV光刻機等設備的維護就成了大問題，維護所需的圖紙、配件、工程師，缺一不可。如果美日荷的晶片協議的限制擴展到維護技術與材料，現有的高階半導體設備可能幾個月後就會停擺。中國做為全球最大的晶片進口國，在國產晶片生產線受阻時必須擴大對外採購，也會更加依賴外國晶片產業，外國的晶片製造商、半導體設備與材料業者也能因此獲益，日本、荷蘭不見得會因這項協議吃多少虧。
一旦荷蘭和日本的限制正式生效，中芯國際、長江存儲、長鑫存儲等大陸頂尖半導體企業所擁有的DUV光刻機等設備的維護就成了大問題。圖為習近平視察長江存儲。（圖／新華社）
大陸半導體業者擁有全球最多的DUV光刻機設備，如果DUV設備、零組件與相關材料列入限售，它的日常維護就成了大問題。（圖／路透）
有些媒體的評論指出，沒有DUV/EUV光刻機，還能發展NIL光刻機，但這些媒體從來不提這款光刻機使用的NIL技術是由普林斯頓大學周郁教授研究出來的，它使用的美國技術與專利一點都不比DUV/EUV光刻機少，美國照樣可以依現有的技術管制路徑限制美國技術對中國出口。
小晶片技術發展時間尚短，所需的配套設備與材料沒有那麼複雜，要在短時間內趕上美國的技術進展會容易得多。圖為AMD新開發的13合1小晶片。（圖／AMD）
此外，最近為規避昂貴的EUV光刻機而快速發展的小晶片（晶粒）技術，大部分也都掌握在美國企業手上。唯一的差別是小晶片技術發展時間尚短，所需的配套設備與材料沒有光刻機那麼複雜，要在短時間內趕上美國的技術進展比走DUV/EUV光刻機路徑要容易，研發經費也少得多。如果從成功機率與成本效益衡量，採用其他的半導體技術或許是彎道超車最有希望的路徑。
