今年7月傳出,晶圓代工龍頭中芯國際已經量產7納米晶片並出貨給客戶,代表大陸晶片業技術有突破性發展,這也觸動美國的敏感神經,接連擴大制裁範圍,雙方交鋒越演越烈。如今,有專家爆料,中芯的工程師自訴,大陸國產的DUV機台的效率並不好,甚至接到很多投訴電話,在機台方面仍需要仰賴外國技術。
具體投訴哪些問題有待確認,良率問題?還是光刻機知識產權問題?芯榜將繼續跟蹤報道。
光刻機根據光源的不同,大致分為四大類,製程從低到高分別是g-line、i-line、DUV(KrF、ArF、ArFi)、EUV。
ASML不能自由出貨EUV光刻機,僅僅靠DUV光刻機維持業務。若這塊業務也不能做了,可想而知ASML往後在中國大陸的市場狀態。
也許有人說了,ASML不是還有更低端的g-line,i-line光刻機嗎?DUV不能出貨就賣更低端的設備,總能保留市場。就這種級別的光刻機,國產早就實現突破了,上海微電子作為國內唯一的整機裝備光刻機廠商,拿下g-line,i-line光刻機市場不是什麼問題。
半島電視台報道說,中芯國際量產7納米的消息一出,美國先是禁止用來開發3納米以下晶片的EDA軟體出口,上周又限制英偉達、超微等廠商向大陸出口高階人工智能晶片,打擊大陸晶片業的舉動可說是一波又一波。
中芯在無法取得ASML的EUV極紫外光曝光機的狀況下,靠着DUV深紫外光曝光機推進技術,引起市場震撼,台灣工研院產業科技國際策略發展所研究總監Ray Yang表示,「中芯可以使用DUV生產7納米,甚至進行量產,但這無法讓生產過程具有成本效益,將DUV機台的技術推向極限,如同以F1的速度駕駛一般汽車。」
Ray Yang補充說道,「在此狀況下,產品良率將會非常低,因此並不是優化先進制程的解決方桉,要將技術從7納米繼續往前推進幾乎是不可能的。」
台媒體稱若大陸想要跨進7納米以下的先進制程,會需要ASML獨家生產的EUV機台,然而在美國制裁下,大陸廠商無法拿到此設備,因此希望透過國產機台的方式取得突破,但過程並不容易。
半導體產業分析機構SemiAnalysis分析師Dylan Patel表示,「中芯的工程師自爆國產機器出現很多問題,甚至接到許多投訴,大陸還有辦法生產好的ArF曝光機(其中一款DUV機台)大陸用外國機器生產晶片落後多年,而國產設備上則落後數十年。」
事實上,7月也傳出美國有意施壓ASML禁止出售DUV設備至大陸,但目前並沒有實質上的動作,ASML曾警告,如果美國迫使公司停止向大陸出售DUV設備,全球半導體供應鏈將面臨中斷,因為大陸是重要的參與者。