在半導體設備中，光刻機是核心設備，決定了工藝的先進程度，EUV是當前最先進的光刻機，可以製造7nm以下的工藝，全球僅有荷蘭ASML公司能夠生產，單價將近10億元，下一代EUV甚至超過25億元。
研發EUV光刻機到底有多難？全球還有別的公司可以製造出來嗎？對於這樣的疑問，ASML公司日前在財報會議上談到了EUV的難點。
ASML表示，就ASML而言，它由數百個供應商組成，每個供應商在什麼方面都是世界級的。
只要提到通快、蔡司和VDSL的名字，他們的工作就是世界級的，這只是上百家供應商中的三個。
研發光刻機需要的不止是專利，它的訣竅是人，是大腦，ASML表示這些花了40年的時間。
物理學規律在全球都是一樣的，但是ASML做到這一步有着數百家公司積累的專業知識，他們作為系統集成商做出了光刻機。
