阿波羅網王篤若報導/《路透》近日披露，中共國為突破美國半導體技術封鎖，秘密招攬愛斯摩（ASML）前工程師，以逆向工程方式拼裝出極紫外光設備（EUV）原型機，引發國際半導體界高度關注。報導稱，這些工程師甚至以變造身份參與研發，但因無法取得德商蔡司（Carl Zeiss）核心光學系統，使得原型機性能遠落後於愛斯摩的量產EUV。
此事在荷蘭引發強烈質疑。《電訊報》（De Telegraaf）採訪荷蘭諮詢機構Insinger Gilissen半導體設備分析師伏斯蒂格（Jos Versteeg），他指出，EUV的難度在於必須由多國尖端供應鏈協作完成，特別是德商蔡司(Carl Zeiss)的光學系統無法替代。他表示，外界無法理解中共國如何在缺乏關鍵零件與協作體系的情況下組裝EUV，「真正的能力仍是謎團」。他同時強調，該原型機迄今未產出任何晶片，更無法證明其工藝可行性。
伏斯蒂格補充，愛斯摩早在2001年就打造出EUV原型機，但直到2019年才商業化，整整18年。他認為中共國即使挖來大量工程師，也欠缺關鍵軟體、生態系統與授權，手上的多為舊機零件，無法進入全球市場。
在評估中共國是否具備挑戰能力時，伏斯蒂格直言，中共國目前在全球半導體的主要產能僅停留在成熟製程，「大多是汽車雨刷等級的處理器」。若用自製設備生產晶片，效率遠不如愛斯摩設備，其用途恐怕只剩科研或軍事，難以商業化。
日本知名半導體產業觀察家「Takeshi Hattori」在X表示，中共國過去確實從愛斯摩與尼康（Nikon）挖角工程師，但本次EUV原型機的真實性仍「高度不明」，許多關鍵能力至今未被證實。
半導體專家普遍認為：即便中共國能拼出樣機，要追上愛斯摩仍有至少十年以上差距，且供應鏈封鎖將使其永遠難以商業化。
阿波羅網評論員王篤然分析，中共國試圖以逆向工程突破EUV壟斷，但缺乏蔡司光學系統、軟件生態與全球協作鏈，僅能做出「形似而神不似」的原型機。以政治任務代替技術積累，最終只會製造昂貴樣品，而非真正的產業能力。此案反映中共科技戰略的結構性虛弱。
「即便拼得出樣機，卻拼不出供應鏈， 何況這個樣機真假存疑；中共國做的不是EUV，是一場昂貴的技術幻覺。」
路透日前披露，中國透過逆向工程打造出類似ASML的EUV設備，專家認為這件事還有很多謎團待解。(路透)
