9月26日,日本佳能宣佈,將首次供應半導體的下一代製造設備,這批設備將交付給力爭開發尖端半導體的美國政企組織,該設備使用「納米壓印」自主技術在晶圓上繪製電路圖。與使用光的傳統方法相比,納米壓印的優勢在於能夠抑制耗電量和成本。
據報導,佳能將向「德克薩斯州電子研究所」供貨,該研究所是德克薩斯大學奧斯汀分校支持的一個組織,包括德克薩斯州和美國英特爾等半導體企業都參與其中,預計將被半導體企業等用於研發。
該設備在半導體製程中用於在晶圓上繪製電路圖。目前,標準方法是使用強光來繪製電路。佳能的設備採用的方法是將刻有電路圖的模具像「印章」一樣壓在晶片上。
佳能從2014年起正式開發該技術,2023年10月開始銷售設備。這是佳能在宣佈上市之後首次出貨。該設備還兼容製造尖端邏輯半導體所需的精細線寬。
傳統設備需要配備多個鏡頭,但佳能的設備結構簡單,耗電量僅為先進領域傳統方法的十分之一。即使是複雜的三維電路圖也可以通過一次衝壓繪製出來。該設備是與鎧俠株式會社(KIOXIA Corporation)和大日本印刷合作推進研發的。
同一天接受採訪的佳能光學設備事業本部副事業本部長岩本和德表示:「我們的目標是在三到五年內每年銷售十幾台」。
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