中秋節假期有新聞稱，中國開發出了可以用自主技術製造8納米半導體的深紫外（DUV）光刻機。中國門戶網站和社交媒體首先發佈了消息，台灣、香港媒體和部分國內媒體也跟進報道了這一消息。
最終結果來看，這條新聞是莫名其妙的誤報。這是對中國工業和信息化部9月初在網站上傳的2024年版重要技術裝備普及目錄中的中國產光刻機的技術指標進行誤讀所引發的鬧劇。也許是因為在美國等西方國家高強度的半導體制裁下，無論如何都要實現技術自立的躁動。
在中國國內，最近自稱是「中國版英偉達」的人工智能（AI）半導體領域獨角獸們也紛紛崩潰。雖然就像開發出了不起的技術一樣吸引來了投資資金，但他們卻由於無法取得成果而倒閉或退出股市。
雖然宣稱「實現了技術突破」……
該新聞的源頭是工信部資料中包含的關於中國產氟化氬（Arf）光刻機的技術指標。其中有「解像度為65納米以下，套刻精度8納米以下」的語句，「套刻精度8納米以下」的部分被誤認為可以製造8納米級半導體。據說該設備是由一家名為上海微電子裝備有限公司（SMEE）的中國國有半導體設備製造商開發的。
光刻機將激光光源投射到半導體晶片上，以刻出納米級的精密電路。這是一種非常微小的電路，需要用電子顯微鏡才能看到。解像度高達65納米意味着可以繪製65納米粗的電路。
套刻精度是在半導體晶片上堆疊多層電路時出現的概念，是測量重疊電路時，每層電路偏離基準位置的程度的值。這意味着可以將誤差降至8納米。
中共當局公佈了該設備的指標，聲稱「取得了有意義的技術突破」。但從公開的指標來看，該設備的配置與該領域世界頂級企業荷蘭ASML2009年推出的名為「TWINSCAN XT:1460K」的早期DUV型號相似。ASML最新的DUV設備解像度在38納米以下，套刻精度為1.3納米以下。
中國專業媒體也稱之為「荒唐的混淆」
儘管如此，中國門戶網站和社交媒體上還是出現了「開發出了國產8納米光刻機」「在西方技術壟斷下展現了中國科學技術的實力」等很多帖子。還有人主張：「這將提高中國的半導體自立能力，為全球科技版圖帶來變化。」
但是這種主張被證實是虛假，並沒有花很長時間。不僅是西方技術媒體，中國國內的專業媒體也當即報道稱這是「荒唐的混淆」。
SMEE可以說是中國國內技術最先進的光刻機製造企業。最終只是表明該企業可以製造的最新光刻機是ASML15年前開發的產品水平。
對中國有關半導體技術的報道要進行甄別。中共國家主席習近平提出半導體自立是國家目標，中國政府建立了龐大的半導體基金後，很多沒經過市場驗證的企業對自己的技術能力進行誇大式公開。
「中國版英偉達」的沒落
在中國國內，今年8月底有報道稱，被稱為「中國版英偉達」的圖形處理器（GPU）設計企業（Fabless）象帝先宣佈解散公司，帶來了很大的衝擊。
象帝先是半導體設計專家唐志敏（58歲）2020年在重慶創立的初創企業，過去兩年自主研發並接連發佈了GPU天鈞1號、2號。中國國內有評價稱，象帝先的企業價值高達150億元人民幣（約2.8萬億韓元）。重慶市今年6月還將象帝先評為年度獨角獸企業。
這樣的企業突然宣佈解散公司，解僱了400名職員，令人驚訝。據中國媒體報道，該公司開發的GPU不僅性能不如英偉達，甚至不如華為的AI晶片昇騰910系列，找不到銷路。在初期投資的資金被耗盡，追加投資也斷絕後，陷入了倒閉的危機。
遭遇股市退市
因開發數據中心內伺服器效率最大化的數據處理器（DPU）而備受關注的北京左江科技也於6月28日因涉嫌金融欺詐被深圳股市摘牌。這家企業的股價一度飆升至天價，它認為將成為全球AI熱潮和中國政府半導體培育政策的受益者，所以投資蜂擁而至。
但去年11月中國證券監督管理委員會（證監會）進行的調查結果顯示，這家公司大舉誇大了銷售業績等。據說賣給客戶的DPU產品大部分都堆在公司倉庫里。
