當今世界前3曝光機製造商依序排名為，荷蘭艾司摩爾（ASML）以及日本的尼康（Nikon）、佳能（Canon），尼康與佳能是百年相機老牌不必多說，但是艾司摩爾是什麼來頭？這個1984年才成立，年齡只有39歲的小伙，是如何反超2個老前輩，成為眾星捧月的半導體設備供應商？
台積電浸潤式微影技術只有ASML相信
從上世紀80年代截至本世紀初，全球曝光機企業屈指可數，當時的霸主還是美國GCA（1988年被收購）以及尼康和佳能，艾司摩爾在行業內算是無名小卒，不過這樣的小卒卻非常幸運的碰上2位貴人。
第1位貴人：台積電。在2004年以前，曝光機技術主要還是以乾式曝光為主，這時卻殺出個林本堅，林本堅時任台積電研發副總經理，2002年發明出浸潤式微影技術，這個不被尼康、佳能看好的新技術，當時受到了艾司摩爾的重用，他們一拍即合，僅用1年時間，就在2004年拼全力趕出第1台樣機，並先後奪下IBM和台積電等大客戶的訂單。
可以這麼說，艾司摩爾的成功靠的不是自己，而是林本堅，他的193奈米浸潤式微影技術能顯著提升蝕刻精度，使其成為當時高端曝光機的主流技術方案，一舉壟斷市場。當然，台積電之後在技術、人才、資金方面持續加碼，也促進了艾司摩爾在市場上所向披靡。
第2位貴人：英特爾（Intel）。1997年，為了嘗試突破193奈米，英特爾早就聯合政府、企業成立EUV LLC前沿技術組織，成員除了英特爾以外，還有美國能源部、摩托羅拉（Motorola）、超微半導體（AMD）、IBM，最後1個位置英特爾本想拉尼康和艾司摩爾入伙，問題是，這2間公司1個來自日本、1個來自荷蘭，但極紫外光（EUV）被美國視為半導體產業發展的核心技術，所以不希望外企參與其中。最後，艾司摩爾與美國達成協議，正式成為組織一員。
美國對日本半導體存戒心
艾司摩爾在加入起初就遞交投名狀，同意在美國建立1所工廠和1個研發中心，以此滿足所有美國本土的產能需求，還保證55%的零組件均從美國供應商處採購，並接受定期審查。
眾所周知的是，日本半導體產業在80年代一度強大到可以吊打美國，逼得美國對日本發動全面貿易戰才將日本的半導體產業打下去，所以比起荷蘭，美國對日本存有更大戒心，因此才放棄尼康。
因為2位貴人的加持，艾司摩爾終於在2015年將極紫外光工藝處於可量產狀態，不僅不愁沒有地方賣，每家半導體製造商還都搶着要。隨後5年，尼康痛失50%以上的曝光機市佔率。
尼康閉門造車錯失商機
加入EUV LLC後的艾司摩爾覺得，一旦研發出極紫外光技術，可能會被美國提防，於是決定讓出公司股份，讓英特爾、台積電、三星（Samsung）等半導體大廠成為股東，這個決定證實艾司摩爾不僅消除美國顧慮、贏得盟友，還因合作得到許多技術支援。
當對手靠產業鏈一起發力，尼康還在自己搞定。舉例而言，三星與台積電生產的是DRAM、ASIC等通用性產品，追求產品通用性有助於生產線規格統一，結果尼康從投影系統、控制台、對位系統、軟體甚至機身全是自製，只有照明系統採用德國蔡司（Zeiss）。
其結果就是尼康對各構成的知識非常豐富，且有很強的調整與客戶應對能力，但各構成系統的最優化方面幾乎沒有積累。艾司摩爾則與之相反，設備搬入顧客工廠後還能微調模組，不斷積累下台曝光機最佳模組化設計的經驗，與其他同業相比，艾司摩爾完全是在做全球化曝光機。
一步踏錯步步錯
在那個還在想要把193奈米光波再磨細的年代，半導體大隊分出2派人馬，1派是EUV LLC，另1派則以尼康為首，尼康既因企業本身，還有顧客面原因，仍主張採用前代技術的基礎上，使用157奈米的F2激光。
台積電林本堅的技術他們不是不知道，只是若要改用全新工藝，前期投入的研發、設備等同於推倒重來，簡直是革自己的命，若真要採用，談何容易？不說日企「工匠精神」的心態問題，只說現實層面，未加入EUV LLC、未即時採用浸潤技術，尼康與佳能就註定讓位半導體設備商冠軍寶座。
在艾司摩爾推出首台極紫外曝光機後，雖然尼康很快也亮出了乾式微影157奈米技術的成品，但畢竟被艾司摩爾搶了頭陣，何況波長還略落後於對手，等到1年後，尼康完成對浸潤微影的追趕，也無法再追上艾司摩爾的步伐。
以曝光機技術而言，90奈米、45奈米、22奈米分別是1個門檻，90奈米升級到65奈米不難，但65奈米要到45奈米可難了，乾式曝光會在45奈米這個門檻面臨極限。所以，當時只要誰能突破這個極限，誰就是贏家，而我們現在都知道這個贏家是誰。
