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跪了!這家竟做出「0.7奈米」晶片 台積電有危險?

艾司摩爾(ASML)還在為製造2奈米、1奈米必用極紫外光(EUV)設備努力之際,美國企業Zyvex在先進制程出現重大突破,宣佈成功打造0.7奈米晶片的微影系統,而這種晶片主要用於量子電腦,不過這項技術缺點是產量很低,無法滿足市場對晶片的大量需求,看來對台積電不構成威脅,EUV霸主地位也無可取代。

美國公司Zyvex宣佈,成功挑戰0.7奈米製程。(示意圖/達志影像/shutterstock)

艾司摩爾(ASML)還在為製造2奈米、1奈米必用極紫外光(EUV)設備努力之際,美國企業Zyvex在先進制程出現重大突破,宣佈成功打造0.7奈米晶片的微影系統,而這種晶片主要用於量子電腦,不過這項技術缺點是產量很低,無法滿足市場對晶片的大量需求,看來對台積電不構成威脅,EUV霸主地位也無可取代。

據美國Zyvex公司官網介紹,新推出ZyvexLitho1微影系統,基於STM掃描隧道顯微鏡,使用EBL電子束微影技術,成功製造768皮米,也就是0.7奈米晶片,等同2個矽原子寬度,為目前世上製造精密度最高的微影系統。

目前ZyvexLitho1系統製造出來的晶片,主要用於量子電腦,可打造出高度精密的固態量子元件,以及奈米元件和材料,對量子電腦來說精密度相當重要。

Zyvex公司表示,已經可以接受其他客戶訂單,機器約在6個月內出貨。

儘管EBL技術的精密度超越艾司摩爾EUV微影設備,但缺點是產量很低,無法滿足大規模製造晶片的需求,只適合小量生產,因此不可能取代現有EUV霸主地位。

荷商艾司摩爾獨家供應打造先進制程必備的EUV微影設備,目前客戶包括台積電、英特爾和三星等半導體大廠。

日經新聞先前報導,被封為「全球半導體產業背後頭腦」的比利時微電子研究中心(IMEC)表示,摩爾定律在全新技術配合之下,先進制程推進多少世代都沒有問題。

IMEC提到,1奈米製程需向前跨進4世代,目前其路線圖(Roadmap)已排定,預估在2027年就能實現,而最頂尖的0.7奈米製程可望在2029年之後量產。

責任編輯: 楚天  來源:中時 轉載請註明作者、出處並保持完整。

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