晶片製造設備商艾司摩爾（ASML）十日展示新一代極紫外光（EUV）微影設備，約一輛雙層巴士大、重約兩架空客A320客機、要價達三點五億歐元（約台幣一一六億元）的高數值孔徑EUV。該設備對ASML在1250億美元（約4萬億元）的EUV市場保持領導地位至關重要。
ASML預計今年能出貨數台高數值孔徑EUV。英特爾已下訂單，首台去年十二月已送達該公司奧勒岡州廠，預定明年啟用製造晶片。
這台EUV可在八納米厚半導體打印電路，比前一代小一點七倍，而電路愈細，晶片可安裝的電晶體就愈多，處理速度和內存表現就愈佳。 ASML高管表明，該設備對人工智能（AI）發展至關重要。
ASML執行長韋尼克一月受訪時說，AI需大量運算能力及數據儲存。「若沒有ASML和我們的技術，將無法實現。這會是我們業務的一大驅動力「。該公司發言人莫爾斯（Monique Mols）9日在其總部說，安裝這套重達15萬公斤的系統，要用250個貨箱和250名工程師，耗時半年。
ASML自2018年起銷售的低數值孔徑EUV微影設備，標價1.7億歐元（約56億元）。