北京傳出突破技術門檻打造出EUV原型機，被視為中共版「曼哈頓計劃」，引起業界關注。但北京並未能取得德商蔡司（Carl Zeiss）的光學系統，這是無法動搖半導體設備巨擘艾司摩爾（ASML）EUV的關鍵原因。
荷媒強調，艾司摩爾的秘密武器就是蔡司的鏡子，蔡司是這種光學系統的唯一供應商。現今市面上所有新款手機與電腦設備中最強大的晶片，毫無例外都是由艾司摩爾的設備生產，這些設備若缺乏蔡司的光學技術，根本無法運作。
荷蘭《電訊報》報道，在德國南部小鎮奧伯科亨（Oberkochen），隱藏着艾司摩爾維持未來幾年霸權的核心籌碼，也就是與光學專家蔡司的深度合作。在荷蘭人的催促下，德國人不斷突破物理極限，研發更精密技術，推動全球晶片競賽。這座約8000人的小鎮實際上掌控着全球計算力的演進節奏。艾司摩爾最先進的曝光機使用13.5納米極紫外光（EUV）。儘管北京宣稱已複製並原型化EUV，但光學系統仍是難以逾越的障礙。
蔡司半導體光學元件製造總裁亨舍（Christoph Hensche）指出：「艾司摩爾設備能將晶片圖案縮小到何種程度，很大程度上取決於光學系統提升解像度的能力。我們的反射鏡就是整個系統的心臟。」
蔡司反射鏡物理精度比普通鏡子高5萬倍，最大一面直徑1.2米、重400公斤，亨舍形象地說，「能透過這面反射鏡，用激光擊中月球上的一顆高爾夫球。」蔡司與ASML合作始於1980年代，1990年代投入EU技術時，蔡司義無反顧加入。2008年金融危機前後也共同克服難關，2016年ASML斥資10億歐元收購蔡司半導體業務24.9%股份。下一代「Hyper-NA」技術已規劃中，但亨舍強調，光學系統改良只是核心，光源、組件精度與系統設計同樣關鍵。他指出，雙方珍惜長期合作及共同創造的商業奇蹟。
蔡司半導體製造部門位於奧伯科亨的總部。圖片：蔡司
