6月26日消息，據日本經濟新聞報道，日本經產省與荷蘭經濟事務和氣候政策部在東京簽署了半導體合作備忘錄。二者將共同推進欲量產2nm工藝的日本晶片代工商 Rapidus與荷蘭光刻機巨頭 ASML的合作，並聯手進行技術開發。
報道稱，ASML量產尖端半導體工藝所需的 EUV光刻機領域的翹楚。Rapidus計劃利用經產省提供的補貼，採購 EUV光刻設備。目前，EUV光刻機在全球範圍內較為短缺，面臨着台積電、英特爾、三星等巨頭的爭搶。報道指出，如果 Rapidus和 ASML展開合作，有望強化供應鏈。
出席簽約儀式的日本經產相西村康稔以Rapidus為先例，表示「希望加強半導體領域的政府間合作」。此前，荷蘭與日本先後追隨美國的腳步，加強半導體對華出口管制。日本7月起將半導體製造設備等23項產品加入出口管制名單，荷蘭也將於本周對ASML的5nm級 DUV光刻機 NXT:2000i、NXT:2050i及 NXT:2100i加強出口管制。
