韓國三星電子在記憶體晶片製造上導入極紫外光（EUV）微影製程技術，使其記憶體晶片產能提高一倍，為20年來首次生產技術的革新。該公司也是第一家使用這項技術量產記憶體晶片的業者。
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三星宣佈，已在鄰近首爾的華城動態隨機存取記憶體（DRAM）工廠導入EUV技術，目前已出貨100萬片DRAM，未來還會生產數百萬片，年底前將會在另一座平澤市的DRAM廠也導入此技術。
三星在2000年代初期導入了現在廣泛使用於微影製程裝置的"氬氟雷射（ArF laser）"技術，但隨着積體電路變得更小且更精密，這種技術已接近其使用壽命。透過改用EUV技術，三星將能在量產高階半導體上取得領先。
三星的國內對手SK海力士也計畫明年在DRAM生產線上導入EUV技術，該公司的記憶體晶片的產量上僅次於三星。
雖然三星是首家在記憶體晶片上使用這種新製程的公司，但台積電和英特爾早已使用該技術生產中央處理器（CPU）和其他處理器。
荷蘭的晶片製造設備供應商艾斯摩爾（ASML）生產一部EUV設備，就要價超過1億美元。三星打算利用其雄厚財力，增強在技術上的優勢。
