目前，晶片製造成為國內熱點。業內已達成共識，必須使用EUV（極紫外線）光刻機才能使半導體晶片進入7nm，甚至5nm時代。據《日經亞洲評論》（Nikkei Asian Review）日前援引消息人士的話稱，中國晶片加工企業中芯國際（SMIC）向全球最大的晶片設備製造商——荷蘭ASML訂購了首台最先進的EUV光刻機，價值1.2億美元。中芯國際方面對此事未做評論。
消息稱，這台幾乎相當於中芯國際去年全部淨利潤的設備，將於2019年前交付。ASML發言人表示，該公司對包括中國客戶在內的全球客戶都一視同仁。而且，向中國出售EUV光刻機並沒有違反對社會主義國家進行技術出口限制的《瓦聖納協定》。
安邦諮詢（ANBOUND）半導體行業顧問莫大康對此分析稱，「中芯國際拿出1.2億美元加上配套，這是一個大投資，（可能意味着中芯國際）在為研發做好準備。但在設備到貨之前，尚不能說成功，因為設備出口許可證，荷蘭ASML說了不算，還要聽美國的」。
